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            光刻

            產品詳情
            接觸式光刻 最小圖形尺寸:1μm,套刻精度:±0.5μm
            步進式光刻 投影比例1:5,最小圖形尺寸:0.35μm 套刻精度≤0.15μm(X,Y),曝光范圍<22.5*22.5mm
            電子束光刻 最小圖形尺寸:10nm,套刻精度:40nm 曝光范圍<直徑75mm
            雙面對準光刻 最小圖形尺寸:1μm,正面套刻精度:±0.5μm 背面套刻精度:±0.5μm
            勻膠/顯影 正膠:50nm~20μm,負膠:50~400nm
            噴膠 單次厚度<2μm
            熱板/烘箱 熱板溫度<180℃,烘箱溫度<350℃


            案例展示

            納米線@PMMA CD 8nm  二維光柵 with CD 50nm 

            變直徑納米盤 誤差±5nm 

            Φ100um 光波導 線寬700nm

             

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